光刻機是芯片制造過程中不可或缺的設備之一，可根據不同的用途分為幾種類型：用于芯片生產的光刻機，用于封裝的光刻機，以及用于LED制造領域的投影光刻機。在這些設備中，用于芯片生產的光刻機一直是中國半導體設備制造領域的短板。光刻機，也被稱為掩模對準曝光機、曝光系統或光刻系統，其中常用的是掩膜對準光刻技術，因此又被稱為MaskAlignmentSystem（掩模對準系統）。典型的光刻工藝包括硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘和刻蝕等多個步驟。光刻技術的意義在于使用光線制作圖形，通過將掩模上的圖案轉移至光刻膠上，最終將器件或電路結構暫時“復制”至硅片上。